This is early beta for now! Can't handle all templates properly
Hankkija
| Vastaanotettu Hilmaan | 2023-03-01 |
| Ilmoituksen numero | 2023-121723 |
| TED numero | 2023/S 046-136365 |
| Ostajaorganisaatio | Itä-Suomen yliopisto (2285733-9 ) Yliopistonranta 1 FI-70210 Kuopio https://www.uef.fi/ |
| Hankinnan otsikkotiedot | REACTIVE ION ETCHING SYSTEM |
| Hankinnan yhteenlaskettu kokonaisarvo koko ajalle (ilman alv:ta) arvio | 565 000 EUR |
| Hankinnan yhteenlaskettu kokonaisarvo koko ajalle (ilman alv:ta) lopullinen | |
| Alkuperäinen ilmoitus | https://www.hankintailmoitukset.fi/en/public/procurement/83687/notice/121723/overview |
| Originaali JSON tietue | 121723.json |
Ostettava
| Hankinnan lyhyt kuvaus | Purpose is to replace our current reactive ion etching system with a new one. The most important etching processes are Cl-based Cr etch, BCL3 based Al etch, and HBr based Si etch. |
| Hankintanimikkeistö (CPV) pää | Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses) (38000000) |
| Hankintanimikkeistö (CPV) muut | |
| Aluekoodi | FI1D3 |
| Pääasiallinen suorituspaikka |
